Mitutoyo三豐M Plan Apo 1×物鏡378-800-3

明視場用物鏡
M Plan Apo /
M Plan Apo HR
VMU WIDE VMU FS70 MF-U Hyper MF-U

Mitutoyo三豐物鏡 紫外、近紫外、可視、近紅外

Mitutoyo三豐顯微鏡單元
日本三豐物鏡(紫外、近紫外、可視、近紅外)
用于半導體、電子、液晶相關等產品的生產
品質管理系統、實驗研究裝置使用的光學系統
外觀檢查系統的嵌入式光學單元
微生物等運動物體的觀察 等
可安裝數碼相機，通過外部顯示器進行觀察和拍攝。
可實現橫向水平、上下顛倒等高自由度的固定方法。
與簡易支架一起使用，還可作為緊湊型顯微鏡使用。
★金屬、樹脂、印刷面等表面觀察拍攝
★微量流體分析用光學系統
★以觀察和分析細胞、微生物等為目的的光學系統

M Plan Apo NIR系列等支持紅外區的物鏡組合，可在紅外線下實
現可見光下做不到的非破壞性檢查。
★液晶薄膜、硅基板等的厚度測量
★MEMS內部的非破壞評價、三維安裝評價
★半導體封裝(IC)的內部觀察、晶圓鍵合空洞評價傳感器
★紅外分光特性分析

 ·無限遠校正
·明視場觀察用
·長工作距離
·平場復消色差規格

 上述規格欄中的分辨力和物鏡單體焦深是根據基準波長(λ＝0.55μm)計算得出的值。
※1 觀察反射率較低的檢測對象時，建議搭配使用與所用顯微鏡相對應的偏光裝置。
※2 觀察反射率較低的檢測對象時，建議搭配使用M Plan Apo 2 × 1/4波長板(No.02ALN370)和偏光裝置。注)工作距離會縮短4mm。
※3 安裝物鏡單體時的規格(根據顯微鏡的不同，有可能不符合標注規格)。
在垂直反射照明下單獨使用時，請使物鏡的入射照明光通量達到16.8mm(物鏡瞳徑)以上

 緊湊、輕巧的相機觀察顯微鏡
適用于金屬、樹脂、印刷表面、微小運動物體等各種觀察對象。
·適用于使用YAG激光(近紅外、可見、近紫外、紫外)的微細加工※ ※不保證激光振蕩器配備系統的綜合性能和安全性。
半導體電路的切割、修整、修正、打標、薄膜(絕緣膜)的去除和加工、液晶彩色濾光片等的修復(修正缺陷)等。
·適用于紅外光學系統※
硅類的內部觀察、紅外光譜特征分析等。※另需紅外光源和紅外攝像機等。
·反射照明光學系統標配帶孔徑光闌遠心照明
需要均勻照明的圖像處理。可用于尺寸測量、形狀檢查、定位等。
·VMU-LB和VMU-L4B強化了顯微鏡主體的剛性和綜合性能(與以往產品相比)
·除標準規格外，還可按照需求設計制作雙相機、雙倍率(低倍率、高倍率)等產品